第207章 最起码的尊重 (第3/3页)

，声音都在发抖。

    “林总。”

    “已经可以了。”

    一向最沉得住气的林伟，此刻坐在他对面，手里拿着一张打印出来的系统状态报告。

    他的手也在抖。

    “走。”

    林伟站起身，只说了一个字。

    张默立刻领着他，快步朝着一号验证舱走去。

    很快验证舱的双重气密门打开了，林伟走了进去，张默紧随其後。

    此时验证舱里的人都是国威装备的自己人。

    国威装备光刻总体设计部的首席工程师。

    曾经主导过华夏第一台自主浸没式光刻机整机联调的贺老。

    以及流体力学与流场控制组的组长。

    从七机部退下来以後又被返聘过来的赵老，他已经八十二岁了，头发全白，但眼里依然有光。

    还有几位名声不显，但履历随便拎一份出来都能让国内半导体圈地震的人

    一共十九个人。

    全部站在那台浸没式光刻机的主控台前。

    没有人说话。

    整个验证舱里，只能听见主控台上那几十台显示器的风扇声，和十九个人呼吸声。

    所有人的目光，都盯着前方那块最大的主显示屏上。

    显示屏里是浸没腔内部的实时流场可视化渲染。

    以前这里是一片的混沌，里面充满了旋涡、湍流、温度梯度的复杂图案。

    但现在。

    在李东那套2.1版本降维算法的驱动下，那片混沌被解构成了一组一组的彩色条纹。

    每一条条纹，都是算法在谱空间里识别出来的一个低维不变子空间基底。

    所有原本应该狂野乱窜的高频振荡项，在这些基底的正交性下被悄无声息地消去。

    就像有一只手，从最底层的数学结构里，把湍流这只野兽按进了一个笼子。

    主显示屏下方：

    【曝光焦面偏差：-0.07nm】

    【迭层对准误差：0.11nm】

    【算法前馈响应时间：1.8μs】

    0.11纳米的对准误差。

    这个数字的意义，林伟看得懂，张默看得懂，舱里那十九个人都看得懂。

    这已经是ASML最新一代NXE系列EUV光刻机的工程化水平。

    而这，是一台浸没式DUV。

    是他们用一台物理原理上低一个代的机器，靠着一套算法，硬生生把光刻精度拉到了高一个代际的水平线上。

    “第七次了。”

    有人在林伟身後低声说了一句。

    “前六次都成功了。”

    “这是第七次验证。”

    “贺老说，要连续成功十次以上，才能算是……稳定落地。”